ちょめちょめブログ

メーカー勤務のサラリーマンが運営するブログです

「フォトレジスト」とは? @tapt_

フォトレジストについて解説します。

 

フォトレジストとはフォト(photo=光)とレジスト(regist=耐える)の2つの単語からなる言葉で、光に反応してエッチングに耐える性能を持つポリマー・感光剤・溶剤を主成分とする液状の化学素材です。主に半導体部材として使われます。

 

◇求められる特性

・塗布性:シリコンウェハーに均一な膜を形成するためにミクロンレベルの塗布性が求められます。

・感光性:光を受けた部分が化学反応する。感光後に露光部が溶けるのがポジ型レジスト、未露光部が溶けるのがネガ型レジストという。


・パターン形成:光のイメージどおりのパターンを作るために、光によって化学反応(光硬化)した部分を選択的に残す(または取り除く)機能。主に希アルカリ水溶液が現像液(不要な部分を溶かすために使われる)として使われます。


エッチング耐性:基板をエッチング(不要部分を溶かす)する際にレジストの残された部分がエッチングされることを防ぐ機能が求められます。酸やアルカリの水溶液を用いたウェットエッチングとガスをプラズマ化し用いるドライエッチングがあります。

 

 

フォトレジストは半導体製造の他にプリント基板にソルダーレジストを塗布し、露光(感光)する際にも使われています。

 

フォトレジスト全体の世界シェア

1位:JSR

2位:東京応化工業

 

フォトレジストg線、i線(高圧水銀灯)

1位:東京応化工業

2位:JSR

3位:住友化学

 

フォトレジストKrF(エキシマレーザー)

1位:東京応化工業

2位:JSR

3位:信越化学工業

 

フォトレジストArF(エキシマレーザー{液状含む})

1位:JSR

2位:信越化学工業

3位:東京応化工業